メインコンテンツへスキップ(スクリーンリーダーをご利用の方、キーボード操作の方のアクセシビリティ向上のため設置)

HOME > 知財高裁の資料 > 論文等紹介 > インドネシア研修プログラムの研修員の来庁

インドネシア研修プログラムの研修員の来庁

 平成28年6月3日,インドネシア「ビジネス環境改善のための知的財産権保護・法的整合性向上プロジェクト」の研修員(Ramli知財総局長を含む研修員14名)が,知的財産保護の法制度・運用体制の整備にあたり,日本の法制及び経験等を習得することを目的とする研修プログラムの一環として,来庁しました。
 一行は,第4部高部眞規子部総括判事から「知的財産高等裁判所の概要」について,第3部杉浦正樹裁判官から「立体商標に関する裁判例等」についての説明を受け,さらに,広範囲にわたる関心事項について活発な質疑応答が行われました。

トップに戻る