平成21年9月10日及び11日，中国四川省成都市において，「知的財産権の司法的保護に関する2009年国際会議（2009 International Conference on Judicial Protection of IPR）」が開催され，当庁から浅井憲判事が参加しました。

　この国際会議は，中国最高人民法院知的財産権庭及び四川省高級人民法院の共催並びに中国外商投資企業協会クオリティ・ブランド保護委員会（The Quality Brands Protection Committee of CAEFI）及び欧州連合－中国第2期知的財産権保護プロジェクト（EU-China IPR2 Project）の協賛の下に毎年開催されているもので，本年も，最高人民法院副院長及び同法院知的財産権庭長を始めとする中国全土の多数の裁判官，ドイツ，インド，日本，台湾，イギリス及びアメリカの裁判官，中国の学者等が参加しました。

　会議においては，「知的財産権保護に関する司法制度（第1セッション）」，「特許の司法的保護（第2セッション）」，「特許・標準化・反競争（第3セッション）」及び「インターネットにおける著作権保護（第4セッション）」を議題として討議が行われました。

　浅井判事は，第1セッションにスピーカー及びパネリストとして参加し，「日本における最近10年の知的財産権訴訟制度の改革（Reforms of Japanese IP Court System in This Decade）」との演題で，知財高裁設立の前後を通じた日本の制度改革について報告を行ったほか，各国の実情について，他のパネリスト（中国，インド，イギリス及び台湾の裁判官，ドイツの弁護士並びに中国の学者）と共に討議を行いました。

講演の概要は，こちら(143KB)をご覧ください。